企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
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发布时间:2022-06-30 16:01:00 作者:苏州鑫勇翊
抛光机:精抛时转盘速度可适当提高,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜,在显微镜明视场条件下看不到划痕,但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构,已逐步引起有关专i家的重视。国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。
*长常用抛光方式
机械抛光方式
所谓的机械抛光就是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,大多采用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量 要求高的可采用超精研抛的方式。超精研抛是采用特i制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度,是各种抛光方法中高i级的。光学镜片模具常采用这种方法。
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常用的抛光方式
化学抛光方式
化学抛光工艺是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种抛光方法主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率i高。化学抛光的核i心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数 10 μ m 。
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