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苏州鑫勇翊精密机械有限公司

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苏州鑫勇翊精密机械有限公司
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抛光机供应-河南抛光机-苏州鑫勇翊精密机械2

询盘留言|投诉|申领|删除 产品编号:540303836                    更新时间:2023-02-06
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常用的抛光方式

化学抛光方式

化学抛光工艺是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种抛光方法主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,河南抛光机,效率i高。化学抛光的核i心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数 10 μ m 。

抛光机:精抛时转盘速度可适当提高,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜,在显微镜明视场条件下看不到划痕,但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构,已逐步引起有关专i家的重视。国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。

抛光机常用的抛光方式

电解抛光方式

电解抛光的基本原理与化学抛光相同,抛光机供应,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴极反应的影响,效果较好。电化学抛光过程分为一下两步:

( 1 )宏观整平 溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,抛光机销售, Ra > 1 μ m 。

( 2 )微光平整 阳极极化,表面光亮度提高, Ra < 1 μ m 。

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